近期，光谷企业在半导体专用光刻胶行业实现重大突破：武汉太紫微光电科技有限机构（以下简叫作“太紫微机构”）推出的T150 A光刻胶制品，已经过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。
该制品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内叫作之为“妖胶”的国外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，经过验证发掘T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。
太紫微机构成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家科研中心团队创立。团队安身于关键光刻胶底层技术开发，在电子化学品行业深耕二十余载。
企业负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强暗示：“以原材料的研发为起点，最后得到拥有自主知识产权的配方技术，这只是个起始，咱们团队还会发展一系列应用于区别场景下的KrF与ArF光刻胶，为国内关联产业带来更加多惊喜。”
太紫微核心开发团队成员（前排左一为朱明强教授）
太紫微机构致力于半导体专用高端电子化学品材料的研发，并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术，同期为材料的分析与验证供给最全面的手段。
“无论是从国内半导体产业崛起的背景来看，还是从摩尔定律演变的规律展望将来，‘百家争鸣’的局面已形成，光刻行业还会有非常多新技术、新企业破茧成蝶，但持有科技创新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘专家顾问暗示。
